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gca当时投入研发euv技术项目的3000万美元经费,可以收购asml40%的股权,不是一笔小数目!
gca当时账上的现金流只剩下300多万美元,公司要花钱的地方多的是。
孙健前世在互联网上看过不少有关asml euv光刻机的文章,作者纷纷感叹研发和生产euv光刻机之难难于上青天,被称为外星人的科技水准,是迄今为止人类科技领域所能达到的最尖端技术,没有之一。
为了打破封锁,投入巨资,举国之力也没有看见成果。
前世90年代末,干式193nm波长光刻机遇到了65nm制程工艺的极限,再往下就寸步难行,如何跨入40nm制程工艺?成为阻挡所有光刻机等半导体厂商的世界性难题,科学家和产业界提出了各种超越193nm波长的方案,其中包括157nm f2激光,电子束投射(epl),离子投射(ipl)、euv(13.5nm)和x光等。
相对而言,157nm f2激光的技术难度�
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